该厂为89英寸晶圆制造线配套工程的超去离子水系统性，天天形成含硅电镀废水150吨。电镀废清水中虽无天价属，但硅含水量高易积灰，且电阻器率需到18MΩ·cm这样才能回收。原先的净化处工院艺是无法无法新废止的《电子器件工业化的水环保问题物尾气直接排放的标准》（GB39731-2020）特别的尾气直接排放规定值。 废液化学成分显著特点 常见环境破坏物 ：固体硅（200-300mg/L）、粒子硅（比表面积0.1-1μm） 独特的要求 ：TOC<10μg/L，硼含锌量<5μg/L 饮用水功能 ：低电阻率（<50μS/cm）但硅无机化合物要素繁多 处置操作流程操作流程 革新采用了"梯级膜分开+电去正离子"组和加工： 微滤预治疗 ：1μm陶瓷制品膜手机拦截大科粒硅，通量形成80LMH 阴离子对换环氧树脂 ：D201大孔光敏树脂首选性粘附硅酸氧分子 一级RO设备 ：首段收购率60%，其次段主要采用高脱硼膜pcb板 EDI电去阴离子 ：电压电流导热系数2A/m²，坚持去掉残渣正离子 太阳光的紫外线灭菌 ：254nmUV紫外光线线使用量40mJ/cm² 技術优点 建设常用阻硅剂（有机酸胺类复合型物），延长时间膜被污染的阶段3倍 EDI组件创新技术流道设计的，硅去掉率提拔至99.8% 百度在线硅分享仪（測量使用范围0.1-500μg/L）建立精准脱贫把控 运转认真总结 经3、方检验： 总硅从280mg/L下降0.05mg/L 硼份量从8μg/L降下来0.3μg/L 系统软件收旧率从原40%增加至68% 膜根换周期怎么算延迟至5年，年开机运行资金调低35%