该厂为国际上前沿的集成电路芯片封裝测式公司，生产销售时候中存在巨大含氟废气（日访问量600吨），以往治理基础设施没有能够满足新实行的《电子器件企业水严重废弃物废气排放规则》中氟化物≤5mg/L的请求，需开始技术应用改良。 污水因素定量分析 废水处理方法主耍被污染指数： 氟正离子氧浓度上下波动大（200-1500mg/L） 含硅酸盐、聚磷酸盐等电磁干扰化学物质 pH值呈强酸强碱性（2-4） 革新操作工序 主要采用"三类钙放置+铝盐升星"组合公式生产技术： 3级处置 ： 制作石灰乳结合至pH7-8，形成了CaF2沉积 加药系统氯化钙有效确保Ca:F摩尔比≥1. 一级进行处理 ： 移除整合氯化铝（PAC）开始斜板沉淀池 斜板水解池HRT装修设计为2.5小时左右 三级分销补救 ： 活性氧空气氧化铁粘附柱深层除氟 pH调整体统以保证喷水安全 重要的技能全新点 定制开发了线上氟铝离子监控反馈体统体统，自然调接去除剂的计量污泥脱水量 使用生活污水流入系统限制石粉消耗量30% 沉淀物中污泥干化经压滤后氟化物进行固定率＞99.5% 运作预期效果 改变后平台净化处理利润大大减少至8.5元/吨水，重要的指标： 氟化物≤3mg/L（比较低验出1.2mg/L） SS≤10mg/L 生活污水含水分率≤65% 好项目拿到市级轻工业工业废水解决优质水利工程奖。