该例案来于华中地方1家巨型半导体技术造成公司商家，核心工作加工模块化电路系统IC芯片。在工作加工的过程中，晶圆刷洗、蚀刻等制作工艺需动用过量手机级磷酸（色度≥85%），从此带来高酸度含磷废液。公司商家和原有处理配制是没办法拥有越来越严厉的产生标准（TP≤0.5mg/L），急要升到创新。 焦化废水基本成分及的来源 废渣首要渠道于三方面：晶圆擦洗废渣（占总需水量60%）、机器设备擦洗废渣（30%）及及地表擦洗废渣（10%）。水质标准特色行为 为：pH值1.5-2.5，总磷密度800-1200mg/L，氟正离子含磷量50-80mg/L，COD约200-300mg/L，并富含轻微天价属（铜、锌等）。 净化处理技术操作流程 的项目用于"预整理+药剂学沉积+高等 脱色+深度1滤过"的搭配组合艺： 自动调节池 ：多样化水污染蓄水量，下设pH在线播放监测系统化系统化 一級发应池 ：加药系统石灰石乳设定pH至8.5-9.0，建成Ca3(PO4)2结晶 一级表现池 ：修改PAC和PAM加强斜管沉淀池作用 斜板滤渣池 ：保持固液提取，废水打开脱水器体统 Fenton腐蚀单元式 ：H2O2与Fe²⁺推进用降解塑料生产物 多材质过滤系统器 ：熔融石英砂+抗逆性炭组和进行过滤，狠抓有水出清澈见底 正离子交換控制系统 ：进一大步去掉残渣金属材质铁离子 最终能够功能 模式自动作业稳定的后，水流水的质量：总磷≤0.3mg/L，COD≤30mg/L，氟铝离子≤5mg/L，几项指标图相对比较《光学化工水被大气污染物释放规范标准》（GB 39731-2020）。每一年的少磷释放约15吨，污泥干化带来量较传统艺术新工艺较低40%，自动作业投资成本控住在8.十元/吨水。