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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制做厂座落在西北中北部,首要加工89英寸半导体器件晶圆,平均废水处理工艺尾气排股票放量约800吨。是由于加工全过程中用到不少氢佛酸使用晶圆蚀刻,出现废水处理工艺中氟化物密度万代高达200-300mg/L,远超国家的尾气减排基准(10mg/L以上)。 电镀废水因素及源 污水最主要出自两个步骤: 晶圆蚀刻加工过程 :含高溶液浓度氟化物(HF)、盐酸及一少部分高价属 化学物质机诫拋光(CMP)焦化废水 :含纳米技术级硅颗粒物、有机质络合剂 的设备擦洗生产废水 :含异丙醇、氯离子等设计物 工作鑫霖环保程序流程 所采用"生物沉定+水泥混凝土沉定+的深度过滤装置"一级外理控制系统: 四级外理 :加药系统氯化钙和氢氧化反应钙,转变成氟化钙发展,氟化物清理率达85% 特殊治疗 :移除PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚丙酰胺),清理橡胶胶体部分态影响物 三级考试工作 :利用多材质过滤清洁器和灵活性炭纤维离心分离,出水出水氟化物浓度值稳定的在8mg/L以內 关键因素机器分为:pH系统化自动调整系统化、斜管沉淀自己池、板框隔膜压滤机(废水脱水器)。 终究结果 工程项目进行六年监测网统计数据体现: 氟化物总值酸度:7.2mg/L(降至欧洲国家标淮) COD删去率:92% 工业废水含水分率:≤65% 年环保再生能源回收氟化钙副企业产品约150吨,实现了能源化合理利用

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